

NXT-H | Montador de alta precisão
O NXT-H é um modelo de ponta projetado pela FUJI para cenários de colocação de semicondutores e de alta densidade. Suas principais vantagens estão na compatibilidade total com wafers/materiais em rolo/bandejas, colocação de alta precisão e baixo impacto e adaptabilidade a salas limpas. Seu design modular combina tecnologia avançada de visão e controle de pressão, tornando-o adequado para processos complexos, como módulos SiP, semicondutores de potência e micro LEDs. Ele também alcança o gerenciamento eficiente da produção e a rastreabilidade da qualidade por meio de software inteligente.

NXT-H | Montador de alta precisão
- Descrição
Descrição
1. Sistema de cabeçote de colocação de alta precisão
Manuseio de componentes de várias fontes
- Controle de força adaptativo: A modulação avançada de pressão (por exemplo, cabeçote H01: ajuste da força de colocação de 2,2 a 9,8 N) minimiza o impacto em wafers e PCBs flexíveis, evitando danos aos componentes ou empenamento do substrato.
- Mecânica de alta rigidez: Os eixos XY acionados por motor linear com visão de alta resolução permitem precisão posicional de ±30μm (Cpk≥1,0) para componentes com chumbo, atendendo à precisão de grau de semicondutor.
- Taxa de transferência: Atinge 16.500 CPH para chips 0603 (módulo M3S, cabeçote H12S), otimizado para colocação de alta densidade.
2. Sistema de visão e alinhamento
Arquitetura de inspeção de modo duplo
- Módulo de visão padrão: Inspeciona a geometria e a polaridade dos componentes para peças de 0402 (01005) a 74×74 mm, com correção de postura em tempo real.
- Câmera com iluminação angular (opcional): A iluminação multiangular aprimora a detecção de coplanaridade de pinos para componentes QFP/BGA, reduzindo os riscos de solda fria.
- Reconhecimento de marca fiducial: A detecção em alta velocidade dos fiduciais do substrato (≥0,5 mm de diâmetro) compensa os desvios de deformação/posicionamento, garantindo a consistência da colocação.
- Manuseio de matrizes nuas: Permite a coleta direta de componentes de colisão no wafer usando bicos especializados (φ0,3-φ20,0 mm) com controle de adsorção a vácuo para coleta estável de componentes com espessura ≤0,1 mm.
3. Ecossistema de alimentação flexível
Plataforma de alimentação de vários formatos
- Alimentadores de fita elétricos: Compatível com fita de 8 a 88 mm (bobinas de 7/13/15 polegadas); o módulo M6(S) suporta estações de alimentação de 45×8 mm.
- Manuseio de bandejas JEDEC:
- Bandeja Unit-L: Processa bandejas grandes de 335×330 mm (6 componentes/bandeja).
- Unidade de bandeja M: Manuseia bandejas pequenas de 135,9×322,6 mm (10 componentes/bandeja).
- Unidade de processamento de wafer (compatível com MWU12i): O estágio de wafer integrado suporta wafers de 2 a 12 polegadas com gerenciamento de dados Wafer Map (requer software especializado).
- Gerenciamento inteligente de materiais: O rastreamento de consumo em tempo real vinculado ao Fujitrax com alertas de reabastecimento automático reduz o tempo de inatividade; os carrinhos de troca de lote permitem trocas de alimentador em menos de um minuto.
4. Controle de movimento e design modular
Mecânica de alto desempenho
- Arquitetura modularConfigurações de base 2M/4M; o módulo M6(S) (650 mm de largura) com transportador de pista dupla processa dois substratos de 360×250 mm simultaneamente, otimizando o UPH por metro quadrado.
- Conformidade com salas limpas: Eixos XY vedados contra poeira com filtragem HEPA (padrão), suportando ambientes ISO Classe 6 (Classe 1000) para fabricação de semicondutores.
- Precisão de vários eixos:
- Eixo Z: resolução de altura de 0,1 mm
- Eixo θ: ajuste rotacional de ±0,01° para alinhamento fino dos componentes
- Transportador de pista dupla: O modo de trilha única suporta substratos de até 534×610 mm; o ajuste motorizado da largura no modo de trilha dupla aumenta a produtividade de placas pequenas.
5. Interface de software e automação
Suíte de software integrada
- Plataforma Fuji Flexa: Permite a programação off-line, o compartilhamento de dados de várias máquinas e a otimização do caminho de posicionamento orientado por CAD para reduzir a complexidade da programação.
- Rastreabilidade Fujitrax: Registra dados de colocação de componentes (posição, força, registro de data e hora) com leitura de código 2D de PCB para rastreabilidade de qualidade de ponta a ponta.
- Interface do usuário: Tela sensível ao toque GUI de 15″ com suporte a vários idiomas (inclusive inglês) para monitoramento de status em tempo real, configuração de parâmetros e diagnóstico de falhas.
- Auto-Calibração: O acionamento de um botão para calibração pós-cabeçote/troca de bocal garante a consistência da precisão do posicionamento sem intervenção manual.
6. Sistemas ambientais e de segurança
Ambiente de produção controlado
- Módulo de filtragem HEPA: A filtragem de ar opcional de alta eficiência mantém a limpeza Classe 1000 para evitar a contaminação por partículas dos componentes semicondutores.
- Gabinete hermético: Reduz a entrada de contaminantes externos, adequado para aplicações de alta pureza (por exemplo, LED, fabricação de MEMS).
- Conformidade com a segurança: As portas de segurança com intertravamento duplo impedem o acesso às peças móveis, atendendo às normas CE/UL; o monitoramento de falhas do alimentador/desgaste do bico baseado em sensores gera programações de manutenção proativas.
especificação
Especificações | tipo FC | tipo SD | tipo LD | |||
Cabeças | G04FQ | H24S / H24G | H08MQ | |||
a a | Precisão de posicionamento *1 | ±0,008 mm | ±0,020 mm | ±0,015 mm | ||
Tamanho da matriz *2 | 0,5×0,5 a 15x 15 mm | 0,5x 0,5 a 5,0x 5,0 mm | 0,5x 0,5 a 24 x 24 mm | |||
Espessura da matriz | 0,08 a 6,5 mm | 0,08 a 3 mm | 0,08 a 6,5 mm | |||
Tamanho mínimo da colisão | 0,050 mm | – | – | |||
Passo de colisão | 0,100 mm | – | – | |||
Taxa de transferência *1 | NXT-H | Face para cima | 4.500 cph | 13.400 cph | 8.700 cph | |
Com a face para baixo | 6.100 cph | – | – | |||
4.000 cph *3 | – | – | ||||
Tamanho do wafer | 4 a 12 polegadas | |||||
Revista Wafer | 25 ou 13 slots | |||||
a w s | Precisão de posicionamento *1 | ±0,008 mm | ±0,020 mm | ±0,015 mm | ||
Tamanhos das peças | 0402 (01005″) a 15 x 15 mm | 0,2 x0,2 a 5,0 x 5,0 mm | 0603 (0201″) a 24 x 24 mm | |||
Taxa de transferência *1 | NXT-H | 5.200 cph | 26.300 cph | 11.500 cph | ||
Tamanhos dos painéis (Cx L) | NXT-H | 48 x 48 a 610 x 380 mm | ||||
NXT-Hw | 48 x 48 a 610 x 610 mm | |||||
Potência | CA trifásico200 a 230 V ±10% (50/60 Hz) | |||||
Ar | 0,5 MPa (ANR) | |||||
Consumo de ar | 20 L/min (ANR)*4 | |||||
Peso | NXT-H+MWU12i | 1.930 kg*5 | 1.910 kg | 1.910 kg | ||
*1 Em condições ideais da Fuji... *2 Consulte-nos se for necessário suportar 0,5 x 0,5 mm ou menos ou espessura de 0,1 mm ou menos. *3 Inclui o processo de imersão em fluxo *4 Adicione +90 L/min ao usar um MWU12i. *5 Quando a configuração é NXT-H +MWU12i-FC. |
