

NXT-H | Montador de alta precisión
NXT-H es un modelo de gama alta diseñado por FUJI para semiconductores y escenarios de colocación de alta densidad. Sus principales ventajas radican en la total compatibilidad con obleas/materiales/bandejas de bobina, la colocación de alta precisión y bajo impacto, y la adaptabilidad a salas blancas. Su diseño modular combina una avanzada tecnología de visión y control de la presión, lo que la hace adecuada para procesos complejos como módulos SiP, semiconductores de potencia y micro LED. También consigue una gestión eficaz de la producción y la trazabilidad de la calidad mediante software inteligente.

NXT-H | Montador de alta precisión
- Descripción
Descripción
1. Sistema de cabezal de colocación de alta precisión
Gestión de componentes multifuente
- Control adaptativo de la fuerza: La modulación avanzada de la presión (p. ej., cabezal H01: ajuste de la fuerza de colocación de 2,2-9,8 N) minimiza el impacto sobre las obleas y las placas de circuito impreso flexibles, evitando daños en los componentes o el alabeo del sustrato.
- Mecánica de alta rigidez: Los ejes XY motorizados lineales con visión de alta resolución permiten una precisión posicional de ±30μm (Cpk≥1,0) para componentes con plomo, cumpliendo con la precisión de los semiconductores.
- Rendimiento: Alcanza 16.500 CPH para chips 0603 (módulo M3S, cabezal H12S), optimizado para la colocación de alta densidad.
2. Sistema de visión y alineación
Arquitectura de inspección de modo dual
- Módulo de visión estándar: Inspecciona la geometría y la polaridad de los componentes para piezas de 0402 (01005) a 74×74 mm, con corrección de la postura en tiempo real.
- Cámara de iluminación angular (opcional): La iluminación multiángulo mejora la detección de coplanaridad de patillas para componentes QFP/BGA, mitigando los riesgos de soldadura en frío.
- Reconocimiento de marcas fiduciales: La detección de alta velocidad de los puntos de referencia del sustrato (≥0,5 mm de diámetro) compensa las desviaciones de alabeo/posición, garantizando la coherencia de la colocación.
- Manipulación de troqueles desnudos: Permite la recogida directa de obleas de componentes con protuberancias mediante boquillas especializadas (φ0,3-φ20,0 mm) con control de adsorción al vacío para la recogida estable de componentes de ≤0,1 mm de grosor.
3. Ecosistema de alimentación flexible
Plataforma de alimentación multiformato
- Alimentadores de cinta motorizados: Compatible con cinta de 8-88 mm (bobinas de 7/13/15 pulgadas); el módulo M6(S) admite estaciones de alimentación de 45×8 mm.
- Manipulación de bandejas JEDEC:
- Bandeja Unidad-L: Procesa bandejas grandes de 335×330 mm (6 componentes/bandeja).
- Bandeja Unidad-M: Admite bandejas pequeñas de 135,9×322,6 mm (10 componentes/bandeja).
- Unidad de procesamiento de obleas (compatible con MWU12i): La plataforma integrada para obleas admite obleas de 2-12 pulgadas con gestión de datos Wafer Map (requiere software especializado).
- Gestión inteligente de materiales: El seguimiento del consumo en tiempo real vinculado a Fujitrax con alertas de reposición automática reduce el tiempo de inactividad; los carros de cambio de lotes permiten realizar cambios de alimentador en menos de un minuto.
4. Control de movimiento y diseño modular
Mecánica de alto rendimiento
- Arquitectura modularConfiguraciones de base 2M/4M; el módulo M6(S) (650 mm de ancho) con transportador de doble vía procesa dos sustratos de 360×250 mm simultáneamente, optimizando la UPH por metro cuadrado.
- Cumplimiento de la normativa sobre salas limpias: Ejes XY sellados contra el polvo con filtración HEPA (estándar), compatibles con entornos ISO Clase 6 (Clase 1000) para la fabricación de semiconductores.
- Precisión multieje:
- Eje Z: resolución de altura de 0,1 mm
- Eje θ: ajuste rotacional de ±0,01° para una alineación precisa de los componentes
- Transportador de doble vía: El modo de pista única admite sustratos de hasta 534×610 mm; el ajuste motorizado de la anchura en el modo de pista doble mejora el rendimiento de las placas pequeñas.
5. Software e interfaz de automatización
Paquete de software integrado
- Plataforma Fuji Flexa: Permite la programación fuera de línea, el uso compartido de datos de varias máquinas y la optimización de la ruta de colocación basada en CAD para reducir la complejidad de la programación.
- Trazabilidad Fujitrax: Registra los datos de colocación a nivel de componente (posición, fuerza, marca de tiempo) con el escaneado de códigos 2D de PCB para una trazabilidad de calidad de extremo a extremo.
- Interfaz de usuario: Pantalla táctil GUI de 15″ con soporte multilingüe (incl. inglés) para la supervisión del estado en tiempo real, la configuración de parámetros y el diagnóstico de fallos.
- Autocalibración: El gatillo de un botón para la calibración posterior al cambio de cabezal/boquilla garantiza la uniformidad de la precisión de colocación sin intervención manual.
6. Sistemas medioambientales y de seguridad
Entorno de producción controlado
- Módulo de filtración HEPA: La filtración de aire de alta eficiencia opcional mantiene la limpieza de clase 1000 para evitar la contaminación por partículas de los componentes semiconductores.
- Caja hermética: Reduce la entrada de contaminantes externos, adecuado para aplicaciones de alta pureza (por ejemplo, LED, fabricación de MEMS).
- Cumplimiento de las normas de seguridad: Las puertas de seguridad de doble enclavamiento impiden el acceso a las piezas móviles, cumpliendo las normas CE/UL; el control del desgaste de la boquilla y de los fallos del alimentador mediante sensores genera programas de mantenimiento proactivos.
especificación
Especificaciones | tipo FC | tipo SD | tipo LD | |||
Cabezas | G04FQ | H24S / H24G | H08MQ | |||
a a | Precisión de colocación *1 | ±0,008 mm | ±0,020 mm | ±0,015 mm | ||
Tamaño del troquel *2 | 0,5×0,5 a 15x 15 mm | 0,5x 0,5 a 5,0x 5,0 mm | 0,5x 0,5 a 24 x 24 mm | |||
Espesor del troquel | 0,08 a 6,5 mm | 0,08 a 3 mm | 0,08 a 6,5 mm | |||
Tamaño mínimo del bulto | 0,050 mm | – | – | |||
Bump pitch | 0,100 mm | – | – | |||
Rendimiento *1 | NXT-H | Cara arriba | 4.500 cph | 13.400 cph | 8.700 cph | |
Boca abajo | 6.100 cph | – | – | |||
4.000 cph *3 | – | – | ||||
Tamaño de la oblea | 4 a 12 pulgadas | |||||
Revista Wafer | 25 o 13 ranuras | |||||
a w s | Precisión de colocación *1 | ±0,008 mm | ±0,020 mm | ±0,015 mm | ||
Tamaño de las piezas | 0402 (01005″) a 15 x 15 mm | 0,2 x 0,2 a 5,0 x 5,0 mm | 0603 (0201″) a 24 x 24 mm | |||
Rendimiento *1 | NXT-H | 5.200 cph | 26.300 cph | 11.500 cph | ||
Tamaño de los paneles (L x A) | NXT-H | De 48 x 48 a 610 x 380 mm | ||||
NXT-Hw | De 48 x 48 a 610 x 610 mm | |||||
Potencia | CA trifásica200 a 230 V ±10% (50/60 Hz) | |||||
Aire | 0,5 MPa (ANR) | |||||
Consumo de aire | 20 L/min (ANR)*4 | |||||
Peso | NXT-H+MWU12i | 1.930 kg*5 | 1.910 kg | 1.910 kg | ||
*1 En condiciones óptimas Fuji.. *2 Consúltenos si es necesario un soporte de 0,5 x 0,5 mm o inferior o un grosor de 0,1 mm o inferior. *3 Incluye el proceso de inmersión en fundente *4 Añada +90 L/min cuando utilice un MWU12i. *5 Cuando la configuración es NXT-H +MWU12i-FC. |
